光刻机（Lithography Machine）是集电子、光学、机械和控制技术于一体的高精度制造仪器。
其原理是用某一种光刻胶作为覆盖被制品表面的光刻层，当其在光学系统的辐射下形成图案时，整张硅片分为两部分。在暴露后，需要进行显影，在显影液的作用下，形成预定的图案。将整张硅片进行蚀刻，保留下来的部分就形成了器件的结构。
光刻机的主要部分包括掩模库、光刻胶涂布机、前照灯、微影机、后照灯、接触器台和蚀刻机。每个部分都有特定的功能，合理的配合，才可完成精确的工作。
光刻机主要应用于半导体、集成电路、液晶显示、MEMS等领域，可以完成微米、亚微米级别的结构制造工作。
